Lithiumniobat auf Isolatorsubstraten LNOI
Isolationsschicht
Trägersubstrat
Lithium-Niobat-Dünnschichten auf Isolator sind eine Art POI-Wafer (Piezoelectric on Insulator). Die gestapelte Sequenzstruktur besteht aus Trägersubstraten, die aus Silizium, Quarz, Quarzglas, Saphir oder LN-Wafern bestehen können. Die Zwischenschicht besteht aus thermischem Oxid SiO2, das als Isolator fungiert, und die Lithiumniobatschicht ist die Funktionsschicht über der Isolationsschicht.
Die POI/LNOI-Substrate ermöglichen die Entwicklung von Filtern mit hohem Qualitätsfaktor, großer Bandbreite, sehr geringer Temperaturempfindlichkeit und geringem Einfügungsverlust bei einfacher Herstellungstechnologie. Diese Wafer werden für Hochgeschwindigkeitsmodulatoren, SAW-Bauelemente mit hohem Q-Faktor, IR-Detektoren und THz-Bauelemente entwickelt und verwendet.
Wir arbeiten mit unserem strategischen Partner zusammen, der Erfahrung mit der Technologie des intelligenten Schnitts und des Waferbondings hat, und liefern wichtige piezoelektrische Schichten auf LN/LT in den Größen von 3″, 4″, 6″ bis zu 8″, um spezielle Wafer mit mehrschichtiger Struktur herzustellen.
Spezifikationen für LNOI
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Schichten |
Parameter |
Spezifikationen |
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| Obere Funktionsschicht | Werkstoff | Lithium-Niobat Lithium-Tantanlat | |||
| Durchmesser | 3″ | 4″ | 6″ | 8″ | |
| Ausrichtung der Oberfläche | X-geschnitten oder auf Anfrage | ||||
| Primäre Flachausrichtung | auf Anfrage | grad(°) | |||
| Sekundäre flache Ausrichtung | auf Anfrage | ||||
| Filmdicke durchschnittliche Dicke | 300-600 | nm | |||
| Vorderseite/Oberflächenrauhigkeit | Optisch poliert | ||||
| Isolationsschicht | Vergrabenes Oxid Durchschnittliche Dicke | 4600 | 4700 | 4800 | nm |
| Gleichmäßigkeit der Dicke vergrabener Oxide | -5 | 0 | 5 | % | |
| Trägersubstrat | Werkstoff | SI/LN/SAPHIR/QUARZ/ETC | |||
| Durchmesser | 3″ | 4″ | 6″ | 8″ | |
| Gesamtdicke der Tragschicht | 525 | 525 | 625 | 725 | |
| Verfahren zur Herstellung von Bauelementen | CZ | CZ | ZVD | hydrothermal | |
| Orientierung der Bauelemente | {100} | 0.5 | deg(°) | ||
| Bauelement-Dotierungstyp | N | N | |||
| Dotierung der Bauelemente | Phos | ||||
| Oberflächenbeschaffenheit | 10 | nm | |||
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