Optische Germanium-Kristallscheiben für Halbleiter

Germanium ist ein chemisches Element mit dem Symbol Ge und der Ordnungszahl 32. Es ist ein glänzendes, hart-sprödes, gräulich-weißes Metalloid in der Kohlenstoffgruppe, das chemisch seinen Nachbarn Silizium und Zinn ähnelt. Reines Germanium ist ein Halbleiter mit einem ähnlichen Aussehen wie elementares Silizium.

Die bemerkenswerten Eigenschaften von Germanium

Ge-Glas sind sein hoher Brechungsindex und seine geringe optische Dispersion.
Es hat Titandioxid als Dotierstoff für Siliziumdioxidfasern ersetzt, wodurch die anschließende Wärmebehandlung, die die Fasern spröde macht, entfällt.

Anwendung von IR-Ge-Wafern

Optische Ge-Wafer sind ein elementares und beliebtes Halbleitermaterial, das aufgrund seiner ausgezeichneten kristallographischen Eigenschaften und einzigartigen elektrischen Eigenschaften weithin in Sensor-, Solarzellen- und Infrarotoptikanwendungen eingesetzt wird.

Beschichtung von optischen Germanium-Fenstern

Germaniumfenster sind mit drei Antireflexionsbeschichtungen erhältlich: 3 – 5μm für Anwendungen im mittleren Infrarotbereich, 3 – 12μm für breitbandige multispektrale Anwendungen und 8 – 12μm für Wärmebildanwendungen.

Spezifikationen der optischen Germaniumfenster

Die Leute fragen auch

• Was ist der Unterschied zwischen Silizium-Wafern und Germanium-Wafern?
  Silizium-Wafer können bis zu 150 Grad Celsius oder etwa 300 Grad Fahrenheit standhalten. Germanium-Wafer hingegen können schon bei 70 Grad Celsius oder 158 Grad Celsius brechen oder schmelzen. Siliziumprozessoren sind wegen ihrer Hitzebeständigkeit ideal für Computer.
• Warum wird Germanium nicht anstelle von Silizium verwendet?
  Silizium wird gegenüber Germanium bevorzugt, weil Silizium im Vergleich zu Germanium bei höheren Temperaturen arbeiten kann.
• Was ist der Unterschied zwischen einem Wafer und einem Substrat?
  Ein Substrat ist ein fester (in der Regel ebener) Stoff, auf den eine Schicht eines anderen Stoffes aufgebracht wird und an dem dieser zweite Stoff haftet.